10月11日，国家重点研发计划“战略性先进电子材料”重点专项成果交流和未来技术发展方向研讨会在武汉举行，苏大维格董事长陈林森、新型显示部部长乔文出席会议。会上特邀董事长陈林森，以《光场显示核心技术和展望》为主题发表演讲。

采用变周期、变取向的像素化metagrating调制3D光场相位的新方法。通过重建会聚光场视点，获得了无视觉疲劳、宽视场、彩色的三维体验效果。

光刻是当前半导体、平板显示、MEMS、光电子等行业的关键工艺环节。光刻技术是指在短波长光照作用下，以光刻胶（光致抗蚀剂、photoresist）为介质，将微纳图形制备到基片上的技术。

大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000，在苏大维格科技集团下线，并投入工业运行。iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台，堪称为光电子产业基石性装备，为产业合作创造新机遇。

8月11日，青岛市政协副主席、九三学社青岛市委主委赵铁军一行莅临苏大维格集团，在董事长陈林森的带领下参观了集团主要科研成果和技术产品。

7月29日，第十四届中国发明家论坛暨第十一届“发明创业奖·人物奖颁奖典礼”在北京中国科技会堂隆重举行。苏大维格集团董事长陈林森获得第十一届“发明创业奖·人物奖”特等奖，同时被授予“当代发明家”荣誉称号。

近日，86英寸高性能电容触控膜AD-film及TP-OC模组全贴合产线，在维业达科技公司投入运行，进入产品导入和批量供货阶段。据了解，该产线以单膜方案（OFS）、卷对卷制程生产大尺寸触控膜，支持极窄边框终端设计。

2020年9月10日，2020第16届包装印刷年会在苏州盛大召开。苏大维格集团作为本次年会的承办单位，带来了干货满满的主题演讲以及丰富的纳米3D印材产品，力求为包装印刷行业提供更多选择，更好地满足客户多样化的需求。

陈林森、乔文团队在Nanophotonics上发表论文，采用变周期、变取向的像素化纳米结构重构三维光场信息，实现了32英寸、宽视场、彩色且具有运动视差的三维动态虚实融合显示。该系统有望运用于教育、通讯、产品设计、广告和抬头显示(HUD)等领域。

7月18日，苏州市生产性服务业推进大会在工业园区国际博览中心召开，本次会议以“深度融合、精准赋能，勇攀生产性服务业新高峰”为主题，全市各级政府部门、领军企业、创投机构、行业协会等代表出席会议，市委书记蓝绍敏发表讲话，苏州市委副书记、市长李亚平主持会议并部署工作。

7月25日，第八期民营企业家月度沙龙举行。苏州市委常委、副市长洪宗明，苏州市委常委、统战部部长姚林荣，苏州市副市长陆春云，苏州市政协副主席陈林森、李赞出席活动。

众所周知，光刻设备是半导体制造环节的核心设备之一。秉承“直写，让光刻变得更简单”的理念，苏大维格集团始终立足市场需求，不断实现突破。自主研发的图形化直写系统，应用空间光调制（SLM）技术和位相调制（PLM）技术，实现亚微米直写光刻。