成长历程

欢迎访问苏大维格 SVG Optronics

2001年底,苏州苏大维格科技集团股份有限公司SVG Tech Group在苏州工业园区国际科技园注册。2002年5月,正式投入运营。

成立初期,致力于“数码激光全息制版系统HoloMaker series”研发、激光全息制版技术服务、光学防伪解决方案、产业化应用。其中,HoloMaker成为中国、香港及韩国、印度等的激光全息行业关键设备,成功促进了中国光学防伪与包装行业技术进步。为此,02年初,获中华人民共和国科技进步二等奖,这是中国激光全息行业颁发最高奖项。公司创始人、董事长是中国光学全息工程领域的著名专家,兼任中国光学学会光信息处理与全息专业委员会主任。

2003-2004年,研制成功“定向光变色膜(OVCF)”原版制造技术,成功应用于我国第二代身份证的物理视读膜。同年,研发成功大型纳米压印设备(平压平和卷对卷)。

2005年,自主研发并建立了“定位镭射转移材料生产线”,开创了“定位镭射印刷转移纸张”在烟草印刷包装上的应用先河,“定位激光转移纸张”获得中国专利授权。同年,公司获江苏省高新技术企业认定,通过ISO9001质量管理体系认证。取得了一批激光光刻领域的发明专利权。

2006年,成立“江苏省数码激光成像与显示工程研究中心”(科技厅、财政厅批准),主要致力于超精密激光图形关键制造技术(光刻、直写、刻蚀)和装备、新型平板显示背光模组关键材料、光学防伪解决方案、手机导光薄膜等制造技术的研发与应用。

2006年,研制成功“宽幅智能激光SLM光刻设备工程样机并投入应用,实现了大幅面、高速度的亚微米全息图像的快速光刻,多项中国发明专利授权。企业获“苏州工业园区十佳科技创新小巨人”、“2004-2006年度苏州工业园区民营科技创新十强企业”称号。

2007年,建立苏州工业园区博士后工作站维格分站。建立镭射转移膜产能;研制成功HoloScanV紫外激光干涉光刻设备,这是具有领先水平的亚微米激光直写系统。苏大维格具有了的超精密图形的设计与制造能力。

2007年,研制成功“DMD并行激光光刻系统MicroLab”,具有超过10,000dpi的图形分辨率,主要应用于精密图形设计制造(导光结构、亚微米图形),研发成功手机导光薄膜(LGF),并成立苏州维旺科技有限公司,专注于手机及平板显示光学材料研发与制造。

2008年8月,苏大维格数码光学有限公司改制成为“苏州苏大维格光电科技股份有限公司”SVG Optronics,将业务领域扩大到“镭射转移材料”、“平板显示材料”、“高端光学防伪解决方案”和“先进制造装备”(超精密图形激光光刻设备,纳米压印工艺设备、LIGA技术应用等”。配合公安部相关研究院所研发DMD双通道光变色膜,在我国“新驾驶证”“机动车行驶证”上全面应用。

2008年9月,苏大维格的“宽幅智能激光SLM光刻系统与应用”荣获江苏省科技进步一等奖。

2008年11月,苏大维格入选“苏州市50家首批科技创新试点企业”。研发成功“导光薄膜”并应用于手机keypad。配合国家邮政印制局推出首套采用“定位镭射图形”29届北京奥运会开幕式纪念邮票等(Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic)。

2009年3月,HoloMakerIII-b出口日本;研制成功“无缝彩虹膜压印设备和彩虹膜材料;大型无缝镭射薄膜压印设备出口印尼等国。

2009年4月,“激光直写设备iGrapher200”投入应用,具有350nm以上图形直写能力,支持复杂微结构图形制造。

2009年5月,研制成功“微透镜阵列光学薄膜”,建立了微透镜阵列的批量制造能力。这是中国具有集微透镜阵列薄膜研发与制造能力的单位。研制成功具有突破意义的“ActiveMatrix”动态图形光学防伪薄膜,拟用于高层(公安、金融等)防伪领域。

2009年7月,苏大维格的“微镜Fresnel技术”应用于茅台“白金酒”防伪包装。

2010年5月,研制成功双面UV微纳结构动态光学放大膜。

2010年10月,研制成功超大幅面(1500mmx1300mm)激光图形化设备。

 

2011年,研制成功支持深纹光刻直写刻系统iGrapher820,直写深度50nm-5微米.

2012年-2014年,基于纳米压印与纳米增材方法,研制成功 27" - 55"微网格透明导电膜(0.1欧/方~10欧/方)和高性能电容触控传感器(耐零下50度低温,80度高温,支持戴手套触控);研发成功自支撑透明金属薄膜(<0.1方/阻)。研制成功NanoCryatal200纳米光刻设备,具有四个独立变量,支持100nm线宽、200nm周期的纳米图形的直写,周期调控精度小于1nm。这是当前国际激光直写系统最高的线宽分辨率。

2015年,国家863计划成果“面上绿色生产的微纳柔性制造工艺装备和应用”通过技术验收,评价为优秀。研制成功32"-42”电容触控屏的智能信息交互终端。

2016年,推出“大面积微纳混合直写光刻设备”、第二代(55",110")智能信息交互终端(60点触控),6月31日-7月7日,代表国家863计划先进制造领域参加国家“十二五”科技创新成就展。

2016年11月,公司董事长荣获首届江苏省专利发明人奖。

2016年,攻克了纳米结构光刻精度的技术瓶颈,研制成功增强现实的纳米波导芯片(镜片)。

2017年,第三代(55",110")智能信息交互终端(支持远程会议交互、演示PPT、手写白板、视频、电视),采用电容触控屏技术,在京东商城上线。

The super large format laser patterning system, which has the 100nm feature size, has been achieved by the scientists at SVG Optroncis in 2011.

A national S&T award and a state level S&T award has been earned by SVG scientists and researchers for the distinguished contribiutions to micro-nano manufacturing technologies in the large format nano-patterning systems and roll-to-roll nano-imprinting technologies

This system will be the very important tool in the R&D of nano-wired grid polarizer.

The transparent condutive films owith 10 ohms/square sheet resistance and 88% transparence is developed for large size touch screen. The ltra-thin light guide plates as thin as 0.5mm-0.7mm for 14inch panel have been successfully produced with roll-to-roll processing at NicroTek in 2012.
全国人大副委员长陈至立为苏大维格题词:坚持科技创新,为经济社会发展提供有力支撑。
 
2012.6.28苏大维格在深交所A股创业板成功挂牌上市,股票代码:300331。
 
2012-2014,在国家863计划资助下,研发成功“紫外波长微纳图形直写装备iGrapher820”,研制成功“纳米光刻直写系统NanoCrystal200”(具有研发裸眼3D显示、四参量微纳米结构器件和空间变光学的能力)。
 
深纹微结构直写工艺和软件获得成功,在2-4微米线宽下,槽深可达3-5微米。为新型超高分辨率的柔性电子电路提供了最新的技术手段。
 
基于纳米技术的裸眼3D显示原理验证获得成功,通过连续微纳米结构的设计和制造,实现了裸眼3D显示。研发成功了立体彩色图像的微纳米结构打印的工艺处理过程。
 

2013-2014, the large format projected capacitive touch panels have been sucdessfully investigated and mass-produced.

The 32", 42" capacitive touch panels has the leading touch performances  with fast touch response, uniformity and high resolution based on the nano-silver micro-mesh transoparent conductive film technologies patented in 2010.

The VG-TP hasthe best touch performances for smart table, AIO, interactive education prosentation, kiosk and advertisement