大型智能高速全息制版设备:HoloScanV-e

 

小型激光图形化设备MicroLab100

icroLab100是小型高精度微图形化系统,一款名副其实的微结构光刻加工"实验室",与传统光刻设备不同,MicroLab100属于直写系统,无需掩模板,直接将设计数据光刻成“微结构”
 

热压超薄导光板模具加工设备

随着移动终端的超薄化,卷压(roll-to-roll)制程是生产超薄导光板的必然趋势。精密超薄导光板的批量生产涉及两项技术:柔性压印模具设计与制造、热压设备与工艺。
 

纳米图形光刻设备 NanoCrystal 200

平铺快速直写:NanoCrystal200实现了纳米结构的快速直写光刻功能,采用光斑平铺光刻模式,光斑内调制纳米结构分布,光刻效率比电子束快至少500倍,在阵列纳米器件等研究上,NanoCrystal200具有前所未有的光刻速率,比电子束光刻快5000倍以上,如光刻直径20um的Fresnel透镜阵列, 每次曝光一个透镜,速度可达1000个/s。
 

高速激光图形化直写设备 iGrapher200-820

高速激光图形直写设备(UV laser pattern generator) iGrapher专门用于精密微电路、和微纳模具的无掩模光刻,幅面8英寸-65英寸,线宽>1微米(光学分辨率0.1um-0.5um可调),应用于柔性电路、平板显示(OLED)、触控电路、MEMS的光刻工艺、光掩膜制版和微图形模具制备,是光电子器件、功能材料、微流控、THZ等领域不可或缺的光刻手段。