激光图形化直写设备MiScan

MiScan 系列激光图形化直写设备省去了繁琐的掩膜加工步骤,提供快速,高效和低成本光刻制程的解决方案,尤其对于有光刻Mask外协需求的用户来说,可以自制相应的Mask降低成本或提升研发速度需求;本产品采用大功率的半导体激光光源,长寿命、低功耗;用户操作界面友好灵活,支持多种版图设计格式;可以可以根据自身的需求,方便灵活的选用不同的投影倍率实现多种模式的曝光。
 

小型激光图形化设备Microlab

Microlab是小型高精度微图形化系统,一款名副其实的微结构光刻加工"实验室",与传统光刻设备不同,Microlab属于直写系统,无需掩模板,直接将设计数据光刻成“微结构”,工艺灵活。采用四轴运动控制(X-Y-theta-Z)和空间调制(SLM)技术,具有直角坐标、极坐标和在非平基面上光刻微图形的先进功能。 系统操作方便,支持24/7运行模式,尤其适合于MEMS、微流控、光电子、二元光学器件、光掩模、生物领域的科学研究与研究生实验之用途。
 

高速激光图形化直写设备 iGrapher200/iGrapher820

iGrapher实现了上述希望,突破了一系列关键技术难题,在硬件、软件和工艺上全面提升,实现了大幅面衬底上的微图形高速直写,对掩模文件、集成电路文件格式全兼容。采用高速空间光调制器(spatial light modulation),阵列图形输入模式(达8k帧),3D导航飞行曝光(3D navigation flying exposure)、纳秒时序平铺曝光(parallelism、 nano-second patterning)技术,专用于光掩模、柔性电子的微图形(线宽1um-10um)、LIGA工艺、微纳模具的高效光刻
 

纳米图形光刻设备 NanoCrystal

平铺快速直写NanoCrystal实现了纳米结构的快速直写光刻功能,采用光斑平铺光刻模式,光斑内调制纳米结构分布,光刻效率比电子束快至少500倍,在阵列纳米器件等研究上,NanoCrystal具有前所未有的光刻速率,比电子束光刻快5000倍以上,如光刻直径20um的Fresnel透镜阵列, 每次曝光一个透镜,速度可达1000个/s。
 

大型智能高速全息制版设备HoloScanV

以高速光刻直写为核心技术,首创5五轴自动联动、可调制光斑内的微纳结构的尺度、取向、像素位置和分布。在制版速度、制版图形的精度、制版幅面具有当今国际领先水平,是一款全功能的智能化全息制版系统。在制版功能上,可智能化制备所有类型的全息图像和衍射图像光刻模板,最大幅面可达65寸。
 

UV纳米压印设备

UV-纳米压印是一种基于紫外加工的低成本生产型技术。微光学、光电子、显示、全息行业对UV纳米压印的需求日益增长。
 

热压超薄导光板模具加工设备

随着移动终端的超薄化,卷压(roll-to-roll)制程是生产超薄导光板的必然趋势。精密超薄导光板的批量生产涉及两项技术:柔性压印模具设计与制造、热压设备与工艺。
 

光掩膜精密压印模具全息母板

提供微纳模具、纳米压印模具、光掩模板、全息制版,导光板模具加工。苏大维格有业内最高水准的微纳光刻和激光精密加工设备。
 

微纳功能器件制备

苏大维格从事微纳光学原版、微纳结构器件模具制造的技术领先企业,自主研发的大幅面激光制版设备,可设计、制作具有当今国际领先水平的大尺寸的微纳结构原版(模具)。宽幅激光直写设备在技术性能、机台数量、制版种类和制品性能上行业领先。 所有类型的微纳结构图形均可在苏大维格实现。