纳米图形光刻设备 NanoCrystal 200

faster nano-patterning for functional devices and materials


NanoCrystal200特色

平铺快速直写:NanoCrystal200实现了纳米结构的快速直写光刻功能,采用光斑平铺光刻模式,光斑内调制纳米结构分布,光刻效率比电子束快至少500倍,在阵列纳米器件等研究上,NanoCrystal200具有前所未有的光刻速率,比电子束光刻快5000倍以上,如光刻直径20um的Fresnel透镜阵列, 每次曝光一个透镜,速度可达1000个/s。

纳米级精度调控:独有四参量(五轴控制系统),可调整光斑(像素)内纳米结构尺度、结构取向和结构类型(直线、点阵、曲线等),纳米结构调制精度达1nm。

连续结构调制:范围00nm ~ 10um, 在355nm波长下100nm是光学方法实现的最高分辨率(100nm)。

图是纳米光栅的周期调控、环形纳米结构、蜂窝光子晶体结构和纳米Fresnel透镜结构的SEM照片。

NanoCrystal200 纳米光刻功能

NanoCrystal200具有阵列纳米器件、曲线纳米分布和亚纳米精度的结构调控的性能。光斑内部的线宽任意可调,光斑范围变化5微米-80微米,光斑平铺并曝光频率100次/s-2000次/s。

    可变微纳结构尺度,线宽从100nm变化到10um,调节精度:0.1nm-10nm。
    可变纳米结构分布:连续调控结构取向和分布。
    每次光斑(像素)内结构尺度和类型均精确设定。
    更换位相元件,不仅可光刻直线,同时也可实现曲线和点阵,如全息透镜、菲涅尔透镜阵列(可调焦点离轴位置和焦距长度)
    通过微光栅组合,可以制备各种复杂微纳结构分布和器件

NanoCrystal200为研究纳米结构器件的特性,提供了先进、高效的技术手段。尤其在超颖材料、裸眼3D显示、光子晶体、HB-LED纳米图形衬底制备等方面(参见: HB-LED纳米光刻设备NanoCrystal8),提供了前沿性和实用性纳米光刻工具。

NanoCrystal200,是一款国际领先的纳米图形光刻设备。下图给出了不同类型纳米结构光刻SEM结果照片


 

NanoCrystal200用途

    超材料结构特性研究
    纳米透镜、全息透镜制备
    裸眼3D显示的纳米导光板
    光子晶体阵列制备
    裸眼3D显示的纳米尺度背光源研究
    其他复杂纳米结构的光刻研究
    LED/OLED纳米衬底
    全息图
    衍射光学元件
    连续可变焦距菲涅尔透镜阵列研究

参见:裸眼3D显示的纳米导光板的预研进展

下载 NanoCrystal200的技术说明

参考文献
(1)David Fattal, et.al., A multi-directional backlight for a wide-angle glasses-free three-dimensional display   Nature: Vol495, P348–351, 21 March 2013. DOI:doi:10.1038/nature 11972
(2)Yan Ye, Linsen Chen, et.al, Diffraction characteristics of a submicrometer grating for a light guide plate.  Applied Optics, Vol. 46, Issue 17, pp. 3396-3399 (2007) http://dx.doi.org/10.1364/AO.46.003396

NanoCrystal200 性能参数

    定位精度:±20nm,直线电机驱动(激光尺或光栅尺定位)
    光刻特征结构:>100nm(波长355nm)
    基板面积:8"
    光刻效率: 100像素/s ~ 2000像素/s(运行效果取决与光斑-像素尺寸的设定)
    微纳结构调节范围: 100nm - 400nm,300nm-10um
    微纳结构类型: 周期光栅;纳米透镜、全息透镜真理、菲涅尔透镜阵列;圆形光栅;光子晶体、蜂窝和点阵结构
    调制精度: 光栅周期调节:<1nm;纳米透镜阵列焦距调节:<10nm
    文件类型: ARR; DXF;
    微纳结构看任意组合光刻
    自动实时聚焦功能、3D飞行曝光功能,矢量化扫描和逐点曝光功能。
    24/7工作模式

 

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