光掩膜精密压印模具全息母板

提供微纳模具、纳米压印模具、光掩模板、全息制版,导光板模具加工。苏大维格有业内先进水准的微纳光刻和激光精密加工设备。

1、大尺寸热压导光板的金属模具加工,成套的超薄导光板精密模具的激光刻蚀设备和工艺。参见超薄导光板。

2、黄光工艺的光掩膜板直写加工,提供大幅面激光直写设备、大幅面无掩模图形化光刻设备。

3、高端激光全息制版系统和工艺

4、其他微纳结构精密金属模具制备

一、精密导光板模具、精密激光刻蚀系统
通过多年研发,苏大维格自主研发了高端激光刻蚀系统,攻克了超薄导光板的精密热压模具的整套设计与制造技术,建立了行业热压导光板产线,实现了高品质的导光膜和超薄导光板的热压生产。
 
采用卷压(roll-to-roll)制程,高效率实现精密导光板的批量生产。柔性压印将精密模具上的微光学结构复制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光学结构有效地将全内反射进入导光板(膜)光线导出表面。光线从接近正出射角度导出,亮度更高,更均匀。
 
精密导光板模具激光加工设备LGPMarker:I型:适合于15.6寸以下笔记本导光板模具加工; II型:适合于27"一体机导光板的加工;III型,适合于TV导光板70"模具加工。
也可根据客户需求,订制“滚筒模具激光加工设备”
 
 
由于我们建有热压型导光板的整套产线,包括:光学设计、精密模具制备工艺、大幅面激光刻蚀设备、卷压印设备和光学检测设备。因此,我们制造的大尺寸精密导光板设备和工艺的可靠性得到充分保证。生产的超薄导光板的光学效率和均匀性较佳。
 
 
二、光掩膜板制
 
大尺寸掩模规格
线宽:2um-3um,5um-10um;
光学分辨率:0.35um,0.5um
尺寸:8"-16", 18" - 24", 27"-32"
基片:苏打玻璃、石英。
设备:紫外激光图形化直写光刻系统iGrapher810
用途:OGS, 精密电路、柔性电子
文件:ACAD(DXF),Ledit(GDSII)
 
精密掩膜板规格
线宽:1um - 3um,
光学分辨率:0.22um
尺寸: 2" - 7"
用途:MEMS,集成电路、柔性光电子、科学研究设备:紫外激光图形化直写光刻系统iGrapher200文件:ACAD(DXF),Ledit(GDSII)
 
纳米图形压印模板
亚微米-纳米光子晶体图形模板
蜂窝或点阵周期:240nm-800um
常规尺寸:2寸-8寸
用途:OLED纳米衬底、LED纳米图形化压印模板 材料:玻璃,硅片
设备: 纳米图形化光刻NanoCrystal-8; 紫外干涉曝光系统。

三、全息制版光刻

   幅面4"-42"。
    300nm以上特征结构
    各类全息图形、3D、微图形、纳米水印
    3D彩色图形

※ 压印模板:压印服务
※ 100nm点阵以上周期结构,1微米以上结构复制
※ PMMA、PC、PET材料
※ UV coating 胶

深纹微结构模具:LIGA工艺、激光刻蚀
※ 精密模具:线宽10um-200um,深度5um-30um
※ 精密印刷Ni网版
※ 图形刻蚀(矩阵、蜂窝、棋盘、圆形、直线等)
※ 位相光栅、衍射元件、全息图、精密图形、MEMS
※ 3D成像、空间动感成像(悬浮成像)
四、OLED镂空掩膜点击查看277x199原始图片...

    镂空开口: 10um -40um
    Ni板厚度:30um ~40um
    OLED有机蒸镀、微电极镂空掩膜板、网版
    文件:ACAD(DXF),Ledit(GDSII)

Thickness
   
Pattern area (Ni): 10um - 20um, Frame area(Inver): 0.5mm - 1.0mm
Accuracy of opening size
   
≦±3um
Maximum size of processing
   
650mm x 550mm
Accuracy of pitch
   
≦+/- 10um for 500mm

 

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