小型激光图形化设备Microlab

应用场景

  >>微结构光学器件:二维和三维微结构

  >>等离子刻蚀(ICP) 掩膜、精密图形

  >>LIGA模具

  >>微透镜阵列

  >>二元光学器件

  >>光栅

  >>闪耀光栅

  >>衍射图形:3D图形, CGH(Computer Generated Hologram)

  >>列阵器件: MLA、Fresnel lens

  >>耦合器件:Outcoupling devices

 

技术特点

  >> 无掩膜激光直写

  >> 采用高精度DMD直写可实现快速光刻

  >> 高精密压电陶瓷电机,定位分辨率为10nm

  >> 自动聚焦和CCD对准,双面对准

  >> 步进式曝光,灰度曝光 ,  激光拖曳曝光(形状光阑积分曝光)

  >> 3D形貌等高级加工(闪耀槽型、微透镜阵列等)

  >> 支持GDSII, DXF, BMP等文件格式

 

客户价值

  >> 研发周期短 , 成本低 , 使用便捷

  >> 高性价比产品,占地面积小,功能齐全

  >> 性能稳定,维护简单已经广泛应用于高校和科研院所

 

 

规格参数

 


       Microlab是小型高精度微图形化系统,一款名副其实的微结构光刻加工"实验室",与传统光刻设备不同,Microlab属于直写系统,无需掩模板,直接将设计数据光刻成“微结构”,工艺灵活。采用四轴运动控制(X-Y-theta-Z)和空间调制(SLM)技术,具有直角坐标、极坐标和在非平基面上光刻微图形的先进功能。 系统操作方便,支持24/7运行模式,尤其适合于MEMS、微流控、光电子、二元光学器件、光掩模、生物领域的科学研究与研究生实验之用途。


       系统配置上,Microlab采用双远心投影光学系统(tele-projection opticas)、纳米级陶瓷电机驱动平台(或直线电机)、自动光学聚焦系统(Auot-optical focusing system)、空间光调制(spatial light modulator)和像散CCD检测系统(confocal optical inspection)、控制运行软件。Microlab的光学分辨率500nm,极限(数据)分辨率250nm,定位分辨率10nm。


       Microlab的曝光模式:“光斑平铺拼接模式”,可保证光刻图形的均云性和线宽精度;通过输入灰度图像,支持灰度台阶光刻(grayscale lithography)和二元光学结构的制备。还支持拖曳曝光(形状光阑积分曝光,laser dragging),3D形貌等高级加工,实现闪耀槽型、微透镜阵列、多台阶图形、点阵图形等光刻加工,支持薄胶和厚胶工艺。  


       Microlab支持DXF,GDSII,BMP位图文件。用户只要有基本计算机背景和图像知识,适当培训后,就可上机操作,支持24小时不间断运行,运行成本低,占地4平方米,基本免维护。