小型激光图形化设备MicroLab100

MicroLab100是小型高精度微图形化系统,一款名副其实的微结构光刻加工"实验室",与传统光刻设备不同,MicroLab100属于直写系统,无需掩模板,直接将设计数据光刻成“微结构”,工艺灵活。采用四轴运动控制(X-Y-theta-Z)和空间调制(SLM)技术,具有直角坐标、极坐标和在非平基面上光刻微图形的先进功能。 系统操作方便,支持24/7运行模式,尤其适合于MEMS、微流控、光电子、二元光学器件、光掩模、生物领域的科学研究与研究生实验之用途。

系统配置上,MicrlLab100采用双远心投影光学系统(tele-projection opticas)、纳米级陶瓷电机驱动平台(或直线电机)、自动光学聚焦系统(Auot-optical focusing system)、空间光调制(spatial light modulator)和像散CCD检测系统(confocal optical inspection)、控制运行软件。Microlab100的光学分辨率500nm,极限(数据)分辨率250nm,定位分辨率10nm。

MicroLab100的曝光模式:“光斑平铺拼接模式”,可保证光刻图形的均云性和线宽精度;通过输入灰度图像,支持灰度台阶光刻(grayscale lithography)和二元光学结构的制备。还支持拖曳曝光(形状光阑积分曝光,laser dragging),3D形貌等高级加工,实现闪耀槽型、微透镜阵列、多台阶图形、点阵图形等光刻加工,支持薄胶和厚胶工艺。

Microlab100支持DXF,GDSII,BMP位图文件。永华只要有基本计算机背景和图像知识,适当培训后,就可上机操作,支持24小时不间断运行,运行成本低,占地4平方米,基本免维护。

参见:MicroLab100的基本性能介绍


应用领域

应用于高等院所的科学研究与教育实验。

在微纳结构功能器件、生物与微纳界面(微流控、基因芯片、探针)和光电子、微光学等研究中,MicroLab 是一种理想的、高性价比的微加工手段。尤其适合于小尺寸精密掩膜、CGH、微光学器件、光束整形、MEMS、衍射与折射光学阵列的研制。

客户:国内高校、研究所、企业。出口以色列、日本等国。

   微结构光学器件:二维和三维微结构
    等离子刻蚀(ICP) 掩膜、精密图形
    LIGA模具
    微透镜阵列
    二元光学器件
    光栅
    闪耀光栅
    衍射图形:3D图形, CGH(Computer Generated Hologram)
    列阵器件: MLA、Fresnel lens
    耦合器件:Outcoupling devices

具体行业

    科学研究
    光学防伪 高端光学防伪、光学检测
    微电子学 掩膜板、显示、图形掩模
    微光学 二元光学、菲涅尔镜、衍射光栅、微透镜阵、LED导光板
    生物医学 BioChip生物芯片、微流道、微针阵列、微流控芯片
    平板显示 OLED、BLU、BEF、DEBEDF
    MEMS 微机械零件、微机电传感器、微探测器、新型射频天线 

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