纳米图形光刻设备 NanoCrystal

应用场景

  >>超材料结构特性研究
  >>纳米透镜、全息透镜制备
  >>裸眼3D显示的纳米导光板
  >>光子晶体阵列制备
  >>裸眼3D显示的纳米尺度背光源研究
  >>其他复杂纳米结构的光刻研究
  >>LED/OLED纳米衬底
  >>全息图
  >>衍射光学元件
  >>连续可变焦距菲涅尔透镜阵列研究

 

技术特点

  >> 位相分束模式空频连续设定,150nm - 5μm

  >> 采用大数值孔径紫外干涉光学系统

  >> 高速高性能,视场达到100um

  >> 飞行曝光高速光刻

  >> 3D导航自动聚焦

  >> 支持GDSII, DXF, BMP等文件格式

 

客户价值

  >> 亚波长尺度周期性微纳结构制备

  >> 高性价比产品,占地面积小功能齐全

  >> 允许客户有大的不平整基底,降低基材要求

 

 

规格参数

 



 NanoCrystal特色

  1. 平铺快速直写:NanoCrystal实现了纳米结构的快速直写光刻功能,采用光斑平铺光刻模式,光斑内调制纳米结构分布,光刻效率比电子束快至少500倍,在阵列纳米器件等研究上,NanoCrystal具有前所未有的光刻速率,比电子束光刻快5000倍以上,如光刻直径20um的Fresnel透镜阵列, 每次曝光一个透镜,速度可达1000个/s。
  2. 纳米级精度调控:独有四参量(五轴控制系统),可调整光斑(像素)内纳米结构尺度、结构取向和结构类型(直线、点阵、曲线等),纳米结构调制精度达1nm。
  3. 连续结构调制:范围00nm ~ 10um, 在355nm波长下100nm是光学方法实现的最高分辨率(100nm)。

NanoCrystal纳米光刻功能

  1. NanoCrystal具有阵列纳米器件、曲线纳米分布和亚纳米精度的结构调控的性能。光斑内部的线宽任意可调,光斑范围变化5微米-80微米,光斑平铺并曝光频率100次/s-2000次/s。
  2. 可变微纳结构尺度,线宽从100nm变化到10um,调节精度:0.1nm-10nm。
  3. 可变纳米结构分布:连续调控结构取向和分布。
  4. 每次光斑(像素)内结构尺度和类型均精确设定。
  5. 更换位相元件,不仅可光刻直线,同时也可实现曲线和点阵,如全息透镜、菲涅尔透镜阵列(可调焦点离轴位置和焦距长度)。
  6. 通过微光栅组合,可以制备各种复杂微纳结构分布和器件

       NanoCrystal为研究纳米结构器件的特性,提供了先进、高效的技术手段。尤其在超颖材料、裸眼3D显示、光子晶体、HB-LED纳米图形衬底制备等方面,提供了前沿性和实用性纳米光刻工具。


       NanoCrystal,是一款国际领先的纳米图形光刻设备。下图给出了不同类型纳米结构光刻SEM结果照片