微纳功能器件制备

苏大维格从事微纳光学原版、微纳结构器件模具制造的技术领先企业,自主研发的大幅面激光制版设备,可设计、制作具有当今国际领先水平的大尺寸的微纳结构原版(模具)。宽幅激光直写设备在技术性能、机台数量、制版种类和制品性能上行业领先。 所有类型的微纳结构图形均可在苏大维格实现。

1、技术能力(开发合作)

微纳米结构制备(

图形化):0.35um分辨率以上的微图形光刻能力,幅面25寸;100nm以上特征结构的纳米光刻能力,幅面40寸或更大。
※ LED光子晶体:微米-亚微米周期结构,300nm以上周期点阵或蜂窝结构。用于LED/OLED衬底的纳米图形化制造、衍射分光器件、滤波器件和传输等。

※ 微图形掩膜。图形分辨率1-2um,基片尺寸4" - 14"; 图形分辨率3-5um,基片尺寸25"-65",基片:玻璃、石英、Si等。
※ 柔性触摸屏:在PET表面制作透明导电电路,用于OLED、触摸屏等导电膜传感器。
※ 纳米结构:纳米光子晶体衬底:太阳能电池纳结构200nm减反,OLED,LED纳米图形衬底。

OLED

镂空掩膜板
※ 基材:Ni,图形分辨率1u,镂空开口>40um,Ni厚度50um。
※ 用途:OLED镂空掩膜板、微电极镂空掩膜板、太阳能电池:30um-50um网版


微透镜阵列(Microlens array,MLA)与3D成像微柱栅膜(MCG)
※ 口径20um-150um(MLA)、60um-250um(MCG)
※ 基材:PC,0.125mm-1.0mm,尺寸:10mm -500mm;基材:石英,1mm,10mm-2000mm
※ 排列类型:quadratic,hexagonal, line,others
※ NA:0.08 ~ 0.45, or customized
※ AR coating: no
※ 应用:三维成像显示、LCD增亮、扩散、CMOS传感、光纤耦合、束匀滑、光提取

纳米压印工艺
※ 纳米压印模板:承接压印服务
※ 200nm点阵以上周期结构,1微米以上结构复制、微流控、生物芯片。
※ PMMA、PC、PET材料:压印器件,微纳结构压印薄膜
※ UV coating 胶

LIGA工艺、激光刻蚀
※ 深纹精密模具:线宽10um-200um,深度5um-100um
※ 触摸屏、太阳能电池电极等精密印刷Ni网版
※ 图形刻蚀(矩阵、蜂窝、棋盘、圆形、直线等)
※ 位相光栅、衍射元件、全息图、精密图形、MEMS
※ LED导光logo、3D成像、空间动感成像(悬浮成像)

微结构器件
※ Micro-structure patterns
※ 基材:PC,Si,石英等
※ 图形分辨率1um,深宽比可达5:1,尺寸100mmx100mm
※ 用于二元光学位相结构
※ 微流控芯片、生物芯片等。

一、规则微纳结构

1、光栅(200nm-100um周期结构):纳米压印模板(50mm x 50mm)

2、微透镜结构(5um-150um)
 


3、微透镜3D集成成像
 


4、微柱透镜结构(60um,250um)



5、随机微镜LED导光结构(20um -40um)



6、光子晶体结构(nPSS,250um-450nm)



二、非规则微纳结构

1、光掩膜、MEMS、镂空掩膜(5um-100um)



2、纳米光变色、衍射菲涅耳器件(175nm-250nm)



3、柔性导电电路(透明导电薄膜、传感器,0.5um - 5um)



五、裸眼3D显示、超薄照明

1、3D 真彩色图像(动态图像)
 


2、纳米隐形水印(掠射可视图形)


 
Please to refer to 衍射光学图像、亚银光学团和真彩色全息图像,用于光学安全、新型印刷与防伪i、新型包装等领域

3、纳米仿生效果(水滴等、娥眼减反)



Please to refer to  the HoloakerIIIc,  MicroLab100

4、定向扩散结构(条状微纳结构):3D投影成像

五、其他结构

1、闪耀结构



2、二元光学


 

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