UV纳米压印设备

UV-纳米压印是一种基于紫外加工的低成本生产型技术。微光学、光电子、显示、全息行业对UV纳米压印的需求日益增长。
 
在100纳米-50um图形复制技术中,UV-纳米压印技术已经成为高分辨率、低成本主要复制手段。将是新一代、光电子、柔性印刷电子、3D显示、触控和特种光学薄膜的推动性力量。
 
由于在显示、柔性电子、印刷等领域的产品开发需要,UV纳米压印逐步从平压平纳米压印光刻(NIL)发展到卷对卷UV纳米压印批量复制。
 

 

苏大维格在纳米压印领域进行了长达10余年的研究与开发,从最初的平压平纳米压印拼板设备、卷对卷热压设备、到目前UV 卷对卷纳米压印设备。

苏大维格的UV R2R纳米压印有两种模式:第一、卷对卷UV纳米压印模式,主要用于微纳光学薄膜、柔性微纳米衬底的批量复制制造。第二,滚压平纳米压印模式,在平面上步进滚压,实现纳米结构在平面基材上的重复性复制,主要用于大幅面模具制备。
 
公司建有规模化UV纳米压印制程,千级、万级净化车间,用于光学薄膜、导光薄膜、导电薄膜、柔性印刷薄膜、镭射薄膜的批量制造。
 
苏大维格的UV纳米压印设备配有精密涂布上胶、精密压力传感和温度传感控制、UV光强调节系统,可精密控制压印速度、张力和成型品质,具有很好的基材适应性,适合在塑性基材上直接纳米压印,效率高、成本低、变形量小,同时,建有PET材料表面处理制程。
 
应用领域
 
光学薄膜
立体成像膜
微纳结构薄膜
微光学器
Fresnel 透明膜
防窥视膜
全息薄膜
 
技术参数

    速度 5-30  米/分钟
    幅面: 450mm,800mm,1300mm
    压印深度:100nm -30um
    模具安装: 30分钟